日本化粧品技術者会 THE SOCIETY OF COSMETIC CHEMISTS OF JAPAN

主催：日本化学会　コロイドおよび界面化学部会
協賛(予定)：応用物理学会、化学工学会、高分子学会、日本レオロジー学会、日本化粧品技術者会、日本香粧品学会、日本生物工学会、日本熱測定学会、日本農芸化学会、日本膜学会、日本薬学会、日本薬剤学会、日本油化学会、粉体工学会、日本物理学会、日本生物物理学会、日本分析化学会、日本吸着学会

会期：2026年1月23日（金）
会場：同志社大学東京サテライト・キャンパス　（東京都中央区京橋2丁目7番19号 京橋イーストビル3階）
開催方式：ハイブリッド（対面、オンライン）

開催概要：コロイドおよび界面化学分野の主要な研究対象である界面活性剤やポリマー、粒子などには、ナノからマイクロスケールで自己組織化により秩序だった構造を形成するものが数多く存在します。これらは化粧品のみならず、医薬品製剤や機能性材料においても、製剤の安定性向上や有効成分の送達、さらには光学特性やテクスチャーといった性能に大きく寄与します。そのような構造体を巧みに操り、新たな製剤を創出・評価している最新技術についてご講演いただくことで、皆様の製剤開発への一助になればと考え、本テーマを企画いたしました。今回は、自己組織化や分子集合体についての基礎的な内容から、これらを用いた製剤設計、そして最新の評価技術まで、バラエティーに富んだ構成となっております。また、現地でご参加の皆様は、講師の先生と名刺交換や個別質問ができる時間を設けております。製剤開発の未来に向け、是非ご参加のほどよろしくお願いいたします。

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【プログラム】
　10:00-11:10　界面活性剤分子集合体の多様性とおもしろさ　 11:20-12:10　NMRによるナノ分散系の内部構造解析と製剤物性評価　　 12:10-13:10　昼食・休憩

13:10-14:00　コロイド粒子の自己集合による構造形成とその光学特性　 14:10-15:00　経皮薬物送達のための界面制御技術　－S/O技術と界面活性イオン液体－　 15:00-15:20　休憩

15:20-16:00　つけるだけでメイクが落とせる？！動的濡れ性を制御したメイク自発洗浄技術の開発　　 16:10-16:50　制汗剤の機能特性解析～アルミニウム塩が形成するコロイドゲルの構造解析～　 16:50-17:20　 講師の先⽣⽅との名刺交換・個別の質疑応答（現地参加者のみ）

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【参加費】
部会員・講師紹介15,000円、日本化学会・協賛学会員18,000円、非会員25,000円、学生（部会員） 3,000円、学生（非会員） 5,000円
※参加費は全て税込価格となります。
※ご勤務先が法人部会員の場合は部会員、日本化学会法人会員の場合は日本化学会員、協賛学会法人会員の場合は協賛学会員扱いとなります。

【お申込方法】
コロイドおよび界面化学部会Webサイト（https://colloid.csj.jp/202510/43th_colloid_sympo/）にアクセスし、お申し込みください。申込は当日まで受け付けますが、会場での現金授受を伴う受付は行いませんので、当日でも申し込みサイトからお申込み下さい（当日申込はカード決済でお願い致します。）。当日の円滑な運営のために、可能な限り1/16（金）までのお申し込みにご協力をよろしくお願いいたします。

【お問合せ】
日本化学会　コロイドおよび界面化学部会
E-mail: jigyoukikaku_01@olloid.csj.jp