日本化粧品技術者会 THE SOCIETY OF COSMETIC CHEMISTS OF JAPAN

総説

におい分子とにおい受容機構

長谷川登志夫
埼玉大学大学院　理工学研究科

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原著

皮膚単位面積あたりの細菌数の算出と肌状態との関係

太田 聖子1＊，鈴木 留佳1，青木 郁子1，坂田 修1，畑 毅1
1株式会社コーセー 研究所

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オイル成分を高配合した透明シャンプーの開発

坂田 翔平1，三園 武士1，田中 佳祐1，栁 由紀1＊
1 日光ケミカルズ株式会社　中央研究所

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カバー効果と自然さを両立する両親媒性ポリマーネットワークを有した W／O ファンデーションの開発

栃岡 沙希1 ＊，齋藤 悠1，五十嵐 崇訓2，山澤 隆史3，芝野 友紀子1，半山 香穂里1
花王株式会社 1メイクアップ研究所，2スキンケア研究所，3解析科学研究所

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ブリーチ毛髪のうねり発生機構

上門 潤一郎1＊，豊田 洋介1，藤原 暢之1，小林 和樹1，鈴田 和之1，上甲 恭平2
1株式会社ミルボン　中央研究所,2 椙山女学園大学

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短報

ポリグリセリン系界面活性剤を配合したクレンジングオイルによる角栓ケア効果

土井康子1＊，小嶋　悠1，松本善行1，樋口智則1
1太陽化学株式会社　インターフェイスソリューション事業部　研究開発G，

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総説

カラートリートメントの特長とメラニン前駆体を応用した染毛料の技術開発

島津 綾子1＊
1 花王株式会社 研究開発部門 ヘアケア研究所

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原著

角栓形成に対するタンパクのニトロ化の関与

安倉（恒原）由佳1＊，齊藤 奈緒美1，森田 美穂1
1 株式会社ナリス化粧品　研究開発部

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ハンドソープを用いた手洗いによる抗菌・抗ウイルス効果の持続性に関する研究

土岐 梨彩子1＊，堀内 惇平1，浅野 ほたか1，立川 将史2，白江 航2，古賀 丈一朗1，内藤 厚志2
ライオン株式会社　研究開発本部　1 ビューティケア研究所，2 グローバル開発センター

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ドデシルトリメチルアンモニウムクロリドによる毛髪を太くする効果とヘアケア製品への応用

萩原 基文1＊，金島 亜美1，江浜 律子1
1 株式会社資生堂　みらい開発研究所

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短報

単糖糖アルコールのリーブオン化粧品への利用

西尾 洋美1，木村 雄輝1
＊1 物産フードサイエンス株式会社　研究開発センター

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複合浸透波形による美容成分の角層への浸透促進

竹内 祐希1＊，東平 正志1，横田 友美1，山﨑 謙太朗1，三上 直子1
1 ヤーマン株式会社　開発本部　電気設計部

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巻頭言

What’s Next for SCCJ ? 新しい時代に，新しい景色を

尾郷 正志 ／（株）資生堂日本化粧品技術者会　学術委員会委員長

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総説

グリオキシル酸を用いた酸熱トリートメント技術について

石森 綱行
資生堂プロフェッショナル株式会社 技術開発グループ

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原著

Construction of pH and Temperature Dual-Responsive Ceramide Delivery System in the Stratum Corneum

Ryoma Teranishi, Ryoichi Nakatake, Takayuki Kumei
FANCL Research Institute, FANCL Corporation,

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毛径プロファイルによる新しい毛髪評価法

今井 健仁
ホーユー株式会社 総合研究所

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衛生マスク着用による皮膚性状への影響

上田 早智江1＊，高田 真史1，東條 かおり1，櫛田 拳2，髙木 豊1，樋口 和彦1
1花王株式会社 スキンケア研究所，2 花王株式会社 解析科学研究所，

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魅力的な髪への新たなアプローチ “Hair Medulla Care”

平山 貴寛1＊，金澤 莉香1，戸田 和成1，萬成 哲也1，中嶋 礼子1，渕上 幾太郎1，細川 博史1
1 タカラベルモント株式会社 化粧品研究開発センター

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嗅覚受容体技術および調和型消臭技術を用いた介護臭低減香料の開発

三原 尚1＊，村井 正人1，寺田 育生1，桑原 裕香理1，小林 剛1，佐野 昇1，石田 賢哉1，星野 邦秀1，平野 奈緒美1
1高砂香料工業株式会社 研究開発本部

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短報

シャンプー中でのコアセルベートの生成と使い心地の関係

山本 義昭1＊，小野 太一1
1 川研ファインケミカル株式会社
          ライフ事業部 研究開発部 埼玉研究グループ

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Development of Unique Technology Using Plasma on a Liquid Surface, and Its Application to Novel Cosmetic Materials

Toshihiko Okadera 1＊, Hitoshi Sawada 1, Seigo Takashima 2,Ryo Hatano 3, Koichi Yamaguchi 3
1 Research Laboratories, Nippon Menard Cosmetic Co., Ltd.,
2 Nagoya Industries Promotion Corporation,
3 Nagoya Municipal Industrial Research Institute, 

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